TSMC valide sa technologie de process 90 nm avec Calibre xRC de Mentor Graphics
WILSONVILLE, Oregon, le 12 janvier 2005 - Mentor Graphics Corporation (Nasdaq : MENT) a annoncé aujourd'hui que TSMC, relativement a des donnés de reference issues de simulation de "filed solver ", validait les resulats fournis par Calibre xRC pour sa technologie 90 nm.
"L'objectif du programme de test 90 nm de TSMC consistait fabriquer des puces et à valider la stabilité de la corrélation d'extraction du process 90 nm en utilisant des outils d'extraction comme Calibre xRC de Mentor Graphics®", explique Edward Wan, directeur senior du service Design Service Product Marketing chez TSMC. "Ainsi, nos clients communs peuvent utiliser en toute confiance notre technologie sophistiquée Nexsys pour obtenir des résultats précis en matière d'extraction des parasites."
Le programme de puces de test 90 nm de TSMC a montré que les résultats Calibre xRC correspondent aux données mesurées sur silicium et à celles fournis par des outils numériques standard de l'industrie pour le calcul de résistance, d'inductance et à de capacité (R, L et C) parasites. TSMC et Mentor Graphics ont travaillé en étroite collaboration pour mettre au point des structures de test et une technique de mesure qui permettent de quantifier avec précision les effets parasites à 90 nm. Les structures de test ainsi développées comprennent une vaste gamme de largeurs de traits et de structures visant à évaluer les effets de la variation du process sur une tranche de silicium
"Les clients ont l'assurance que les données d'extraction des parasites de Calibre xRC correspondront aux résultats sur silicium", conclut Joe Sawicki, vice-président et directeur général de la division Design-to-Silicon de Mentor Graphics. "Au niveau du 90 nm, les concepteurs n'exigent plus seulement que des nouveaux effets nanométriques soient pris en compte , ils demandent egalement une grande précisionlors de leur extraction. Les résultats sur puces de test ont prouvé la robustesse du process 90 nm de TSMC et la précision de Calibre xRC."
L'outil Calibre xRC supporte au travers de fichiers de regles les principales caractéristiques des process à 90 nm, incluant notamment les effets de polarisation sélective, de longueur de diffusion (LOD), des résistance des source / drain et polysilicium, ainsi que desniveaux métalliques . Pour la modélisation de ces process avancés, l'outil Calibre xRC extrait des parasites RLC de façon extrêmement précis pour répondre à une large gamme de besoins en matière d'analyse.
Support des kits de conception
Les fichiers de règles Calibre LVS, Calibre DRC et Calibre xRC adaptés aux toutes nouvelles technologies de process de TSMC peuvent être téléchargés sur le site Web client de TSMC à l'adresse http://online.tsmc.com/online/login.jsp . Les fichiers de règles Calibre sont totalement compatibles avec les kits de conception TSMC destinés aux technologies AMS, RF et numériques ; ils supportent en outre tous les environnement de conception couramment utilisés.
A propos de Mentor Graphics
Mentor Graphics Corporation (Nasdaq : MENT) est l'un des principaux fournisseurs mondiaux de solutions de conception électronique, pour le matériel et le logiciel, offrant des produits, des services de conseil et une assistance technique reconnue aux sociétés internationales les plus performantes du monde dans le domaine de l'électronique et des semi-conducteurs. Fondée en 1981, la société a réalisé un chiffre d'affaires de 700 millions de dollars US au cours des 12 derniers mois et emploie environ 3 800 personnes dans le monde. Le siège social mondial est situé 8005 S.W. Boeckman Road, Wilsonville, Oregon (tél. 97070-7777) ; le siège de la Silicon Valley est situé 1001 Ridder Park Drive, San Jose, Californie (tél. 95131-2314). Site Web : www.mentor.com/.
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