Mentor Graphics bouleverse la procédure traditionnelle de passage du design à la fabrication avec l'outil Calibre nmDRC, composant de la nouvelle plate-forme Calibre nm

Juillet 2006 - Mentor Graphics (Nasdaq : MENT) annonce la disponibilité immédiate de l'outil Calibre® nmDRC, qui redéfinit l'étape traditionnelle de vérification des règles de conception (DRC) en réduisant considérablement la durée totale du cycle et en intégrant des éléments essentiels (tels que l'analyse des zones critiques et la détection des géométries critiques) pour faire face aux défis de rendement associés aux technologies nanométriques.
Calibre nmDRC fait partie de Calibre nm, nouvelle plate-forme de Mentor qui marque un tournant important dans la façon dont l'industrie EDA gère la complexité de la conception nanométrique.

Evolution des outils traditionnels de DRC
Avec la technologie nanométrique, la vérification physique s'est muée en un processus sophistiqué qui implique plusieurs étapes et exige des approches hautement intégrées du traitement et de la gestion de gigantesques volumes de données de conception complexes. Les designs plus complexes et plus volumineux, ainsi que le nombre plus important d'erreurs et d'itérations de vérification ont entraîné un accroissement de la durée totale du cycle. L'outil Calibre nmDRC réduit cette durée avec une nouvelle approche révolutionnaire. Il propose quatre fonctions clés qui le différencient nettement des outils traditionnels de DRC.

  • La technologie Hyperscaling (hyper-démultiplication) se traduit par une scalabilité supérieure et des temps d'exécution ultra-rapides pour les applications impliquant de nombreux calculs. Elle offre des options avancées de traitement des données qui fournissent des performances optimales en environnement mono et multiprocesseur pour vérifier des blocs en quelques secondes et la totalité d'une puce en quelques heures. Enfin, l'Hyperscaling réduit l'investissement initial en prolongeant la durée de vie des machines multiprocesseur existantes, et en utilisant pleinement la puissance des fermes de processeurs devenues abordables.
  • La visualisation directe des résultats (DRV, Dynamic Results Visualization) et la vérification DRC incrémentale changent radicalement le flot séquentiel du processus d'itération. La DRV permet aux concepteurs de lancer le débogage en quelques secondes, aussitôt la première erreur identifiée lors de la vérification initiale. Une fois les erreurs corrigées, la fonction de DRC incrémentale réalise des vérifications simultanées sur les seules zones modifiées. Cette capacité permet aux concepteurs d'effectuer plusieurs cycles d'exécution/débogage au cours d'une même journée, ce qui réduit considérablement la durée globale du cycle.
  • L'analyse intégrée de la conception en vue de la fabrication (DFM) permet de faire des compromis de layout afin de réduire au minimum les défauts aléatoires, systématiques et paramétriques à l'origine des pertes de rendement. Les opérations simultanées de DRC, d’analyse du rendement et la de modification du layout réduisent le temps total nécessaire pour produire un layout conforme aux règles de conception et aux exigences de rendement élevé.
  • L'accès direct aux bases de données permet aux concepteurs d'utiliser plus facilement l'outil Calibre nmDRC dans l'ensemble du flot, quel que soit leur environnement de création des designs. La lecture directe de bases de données de conception et d'encapsulation traditionnelles (LEF/DEF, MilkyWay, OpenAccess, GDSII et OASIS) accélère le cycle de DRC en éliminant la nécessité d'une étape distincte d’exportation (streamout) des designs. L'écriture directe permet le transfert des améliorations DFM dans les bases de données de conception. Enfin, le support du format OASIS réduit la taille des fichiers, ce qui se traduit par un streamout rapide tout en facilitant le transfert des fichiers et le stockage des données.

“La nouvelle technologie Hyperscaling de l'outil Calibre nmDRC produit des résultats à couper le souffle”, déclare Kun-Cheng Wu Design Development Director de Faraday Technology. “Pour nos designs actuels à 90 nm et 130 nm, cette technologie a augmenté d’un facteur 5X la vitesse d'exécution du DRC par rapport à la version MTflex actuelle, tout en produisant une vérification aussi précise. La tendance étant à des designs toujours plus volumineux et plus complexes, il devient essentiel de réduire le temps d'exécution de la vérification physique. Nous constatons avec plaisir que la technologie Hyperscaling de Calibre nmDRC a tenu ses promesses en matière de performances.”

“Le lancement de Calibre nmDRC nous enthousiasme beaucoup car cet outil redéfinit la nature même de la vérification physique. Tout au long de la période de test exhaustive de la version bêta de Calibre nmDRC, nos clients ont tout simplement été enchantés”, explique Joe Sawicki, vice-président et directeur général de la division Design-to-Silicon de Mentor Graphics. “Dans notre industrie, l’innovation est généralement laissée aux start-ups. Calibre fait exception à cette règle. Calibre a introduit des technologies novatrices, dans un premier temps en proposant les seuls outils DFM intégrés à une plate-forme commune (Calibre YieldAnalyzer, Calibre YieldEnhancer et Calibre Litho Friendly Design), et maintenant avec Calibre nmDRC.”

Le défi des technologies inférieures à 65 nm
A 65 nm, le signoff des designs ne se limite plus à la vérification DRC et à la comparaison layout-schéma (LVS). Ces composants de base de la vérification physique sont complémentés par une large gamme d’outils d'analyse du rendement, d’améliorations du layout, de validation de l’impression sur silicium et des performances. En outre, la complexité croissante des règles de conception nanométrique reflète le fait qu'il est de plus en plus difficile de guider les ingénieurs chargés du layout et, pour leurs outils, de produire des layouts exploitables avec des approches traditionnelles de signoff. En technologie nanométrique, les approches traditionnelles (signoff, DRC/LVS et analyse post-layout avec le layout initial) ne permettent plus de produire des designs au rendement suffisant.

Pour garantir des rendements élevés en technologie nanométrique, les concepteurs ont besoin de nouvelles informations et de nouveaux niveaux de contrôle qui vont au-delà de la vérification des règles de conception vers l'analyse du rendement. Ils ont besoin de nouvelles méthodes d'évaluation de la qualité de leurs designs qui prennent en compte les contraintes de process les plus complexes et les variations de process les plus importantes auxquelles ils sont confrontés. Ils ont en outre besoin de nouveaux moyens pour connaître l'impact de ces contraintes et variations sur la qualité de leurs designs. Enfin, ils demandent un nouveau type d'environnement de travail qui leur permette de comprendre les effets les plus importants à prendre en compte pour améliorer la qualité des designs. Mentor a créé la plate-forme Calibre nm pour répondre à ces nouvelles exigences en matière de signoff.

A propos de la plate-forme Calibre nm
Pour faire face à la ‘nouvelle réalité’ des designs nanométriques, la plate-forme Calibre nm combine la nouvelle technologie d'analyse de l'impact de la lithographie sur le design (LFD, Litho-Friendly Design), la vérification DRC, l'amélioration de la résolution (RET, Resolution Enhancement Technology) et l’extraction/analyse des parasites post-layout pour permettre aux équipes de conception d'effectuer avec efficacité la transition entre une approche orientée règles et une approche orientée modèles (cette dernière entraînant une amélioration considérable de la précision du layout et de la durée du cycle de conception). La valeur exceptionnelle de la plate-forme Calibre nm est liée aux caractéristiques intrinsèques de l'architecture sous-jacente.

  • Le moteur 5ème génération de traitement des données de Calibre fournit les meilleurs temps d'exécution de sa catégorie, ainsi qu'un traitement des tâches distribué permettant l'utilisation de clusters Linux économiques.
  • Le moteur de traitement des données au cœur de la plate-forme Calibre nm garantit des tests exhaustifs et une implémentation robustes pour toutes les applications.
  • L'intégration d'une plate-forme de conception commune permet le déploiement rapide de toutes les applications de la plate-forme Calibre nm dans l'environnement de conception de l'utilisateur.
  • L'environnement de langage commun à toutes les applications (SVRF et TVF) permet aux utilisateurs de personnaliser leur environnement de conception et de vérification en fonction de l'évolution des besoins spécifiques de leurs équipes de conception.

A propos de Mentor Graphics
Mentor Graphics Corporation (Nasdaq : MENT) est l'un des principaux fournisseurs mondiaux de solutions de conception électronique, pour le matériel et le logiciel, offrant des produits, des services de conseil et une assistance technique reconnue aux sociétés internationales les plus performantes du monde dans le domaine de l'électronique et des semi-conducteurs. Fondée en 1981, la société a réalisé un chiffre d'affaires de plus 700 millions de dollars US au cours des 12 derniers mois et emploie environ 4.000 personnes dans le monde. Le siège social mondial est situé 8005 S.W. Boeckman Road, Wilsonville, Oregon 97070-7777. Site Web : http://www.mentor.com/.

Mentor Graphics et Calibre sont des marques déposées de Mentor Graphics Corporation. Tous les autres noms de sociétés ou de produits sont les marques déposées ou les marques commerciales de leurs propriétaires respectifs.