Mentor Graphics lance une solution OPC de nouvelle génération

Calibre nmOPC apporte précision, performance et une nette réduction du coût de fonctionnement du flot RET

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Estelle Fernandez
Mentor Graphics
estelle_fernandez@mentor.com
Clotilde Zeller
Agence Zeller
clotilde.zeller@zellercom.com

Décembre 2006 – Mentor Graphics (Nasdaq : MENT) annonce la disponibilité de Calibre® nmOPC, outil de correction des effets de proximité optique (OPC) de troisième génération qui étend le portefeuille Calibre de solutions d'amélioration de la résolution (RET) pour les technologies inférieures à 65 nanomètres (nm). Associé à l'outil de vérification Calibre OPCverify™ (annoncé plus tôt cette année), Calibre nmOPC marque une nouvelle ère dans le calcul pour la photolithographie avec des résultats inégalés dans l'industrie (tant au niveau de la qualité des simulations, des performances que du coût de fonctionnement).

Les processus photolithographiques à faible coefficient k1 entraînent une augmentation de la complexité des solutions RET. Cette situation s'aggrave nettement à 45 nm, en raison de l’utilisation de modèles de simulation plus complexes, ainsi que des exigences de correction et de vérification a travers la fenêtre de procédés. Toutes ces contraintes (défis photolithographiques, complexité des calculs requis pour le nœud à 45 nm) font que les outils de simulation photolithographiques doivent apporter de nouvelles solutions.

Calibre nmOPC répond à ces défis grâce à plusieurs innovations: simulation pixel par pixel, OPC prenant en compte la fenêtre de procédé, plate-forme de calcul hybride utilisant l'accélération par coprocesseurs dédiés (processeur Cell BE), nouveau modèle de simulation du procédé photolithographique, algorithmes de correction OPC prenant en compte le "design intent". L'outil Calibre nmOPC offre une qualité, une vitesse et un coût de fonctionnement inégalés. Comme tous les produits de la famille Calibre, Calibre nmOPC et Calibre OPCverify utilisent le moteur hiérarchique de Calibre, permettant la mise en place d’un flot unique totalement intégré (du design au masque) utilisant un langage de commande unique. Calibre nmOPC comporte également de nombreuses options pratiques pour la production, telles que : sortie au format OASIS pour réduire la taille des fichiers de sortie ; nouveau traitement hiérarchique afin d’améliorer le temps d'exécution et la taille des fichiers de sortie par rapport aux outils OPC standard ; indicateur de progression et gestion dynamique du nombre de processeurs permettent une gestion optimisée du TAT dans un environnement de production.

Simulation pixel par pixel des variations a travers la fenêtre de procédé
Les variations observées du procédé de fabrication peuvent avoir un effet dramatique sur le rendement. Ceci est particulièrement vrai pour l’étape de photolithographie où les variations de dose et de focus ont un impact direct sur la fidélité des images reproduites. Afin de réduire le risque de défaillance des puces et améliorer le rendement dans les conditions difficiles de faible coefficient k1, Calibre nmOPC utilise à la fois son mode de simulation pixel par pixel (garantissant une couverture totale du niveau en question) que ses algorithmes d'optimisation de la correction à travers la fenêtre de procédé pour garantir un transfert fidèle des structures transcrites sur la plaquette de silicium. Calibre nmOPC supporte également la prise en compte simultanée de plusieurs couches du design afin de permettre une meilleure reproduction des configurations complexes du design et garantir le rendement.

Plate-forme de calcul hybride avec coprocesseurs
Grâce a l’utilisation d’une plate-forme de calcul hybride, utilisant un coprocesseur innovant, Mentor réduit le coût de fonctionnement. L'architecture RAS (Remote Acceleration Simulation) permet de relier, à l'aide d'une connexion Ethernet, un cluster d'accélération par coprocesseur à un autre cluster de calcul traditionnel. Mentor s'est associé à Mercury Computer Systems, leader dans la conception de systèmes de calcul hautes performances, pour offrir des clusters d'accélération basés sur le coprocesseur ultra-hautes performances CBE (Cell Broadband Engine™). Les clusters de coprocesseurs Cell accélèrent le calcul des images de Calibre nmOPC, délivrant ainsi une amélioration d'un facteur de 4 à 10 du temps d'exécution avec très peu (voire aucune) augmentation des besoins associés au-delà du 65 nm. Cette application novatrice du processeur Cell aux simulations photolithographiques redéfinit le coût de fonctionnement associe, répondant ainsi à la demande de baisse des coûts émanant des clients.

Anthony Yu, vice-président de la division Semiconductor Industry Sales, Technology Collaboration Solutions chez IBM Corporation : “La technologie Cell BE est adaptée à de nombreux types de solutions basées sur le calcul d’images, et donc aux applications en relation avec les semiconducteurs comme la nouvelle technologie logicielle d'imagerie pixel par pixel de Mentor. Le déploiement de Cell BE par un leader de l'EDA comme Mentor Graphics peut placer cette technologie au premier rang des solutions permettant la fabrication des futurs circuits. ”

Modélisation compacte
Avec l'introduction d'une 4ème génération de modèles de simulation, Mentor conserve son rôle de leader en matière de modélisation. Le nouveau modèle CM1 offre une précision supérieure à celle de ses prédécesseurs, répondant ainsi aux exigences des clients pour les générations 45nm et 32 nm. Il bénéficie en outre des capacités de simulation pixel par pixel et d'accélération par coprocesseur de nmOPC. L'étalonnage automatisé des modèles CM1 délivre une excellente stabilité des modèles et élimine les choix difficiles d'optimisation pour l'ingénieur OPC.

“Avec Calibre nmOPC, nous introduisons plusieurs nouvelles technologies qui nous permettent de conserver notre place de leader sur le marché de la simulation photolithographique”, déclare Joe Sawicki, vice-président et directeur général de la division Design to Silicon de Mentor Graphics. “Nous conservons notre modèle commercial, en renforçant nos compétences logicielles, tout en collaborant avec Mercury pour l’offre de simulation hautes performances.”

Prix et disponibilité
Calibre nmOPC est disponible immédiatement. Pour de plus amples informations, visitez le site de la société à l'adresse www.mentor.com.

A propos de Cell Broadband Engine
Cell Broadband Engine est une marque commerciale de Sony Computer Entertainment, Inc. Cette technologie a été développée conjointement par Sony, Toshiba et IBM. Pour plus d'informations sur la technologie Cell Broadband Engine, consultez http://www-128.ibm.com/developerworks/power/cell/index.html

A propos de Mentor Graphics
Mentor Graphics Corporation (Nasdaq : MENT) est l'un des principaux fournisseurs mondiaux de solutions de conception électronique, pour le matériel et le logiciel, offrant des produits, des services de conseil et une assistance technique reconnue aux sociétés internationales les plus performantes du monde dans le domaine de l'électronique et des semi-conducteurs. Fondée en 1981, la société a réalisé un chiffre d'affaires de 750 millions de dollars US au cours des 12 derniers mois et emploie environ 4 100 personnes dans le monde. Le siège social mondial est situé 8005 S.W. Boeckman Road, Wilsonville, Oregon 97070-7777. Site Web : http://www.mentor.com/.

Mentor Graphics et Calibre sont des marques déposées et Calibre OPCverify est une marque commerciale de Mentor Graphics Corporation. Tous les autres noms de sociétés ou de produits sont les marques déposées ou les marques commerciales de leurs propriétaires respectifs.