Les outils Calibre de Mentor Graphics renforcent le flot DFM de la plate-forme technologique 65 nm commune de IBM/Chartered/Samsung

WILSONVILLE, Oregon, le 30 mars 2006 - Mentor Graphics Corporation (Nasdaq : MENT) annonce que plusieurs outils novateurs de sa plate-forme design-to-silicon Calibre® ont été qualifiés et mis à la disposition des designer souhaitant mettre en œuvre une méthodologie consistante de conception en vue de la fabrication (DFM) destinée à la plate-forme technologique 65 nanomètres (nm) commune d'IBM/Chartered/Samsung. Grâce à ces outils validés en production, les concepteurs qui souhaitent utiliser la technologie developpée par ce trium vira disposent dorenevant d'un moyen supplémentaire d'identifier et de corriger les facteurs limitant le rendement dès le début du flot de conception, améliorant ainsi la qualité finale des produits ciblant cette technologies nanométriques de pointe. Le succès de la nouvelle génération de flots de conception de CI repose sur le support de ce nouveau type d'outils DFM par les fonderies.

Plus spécifiquement, Calibre LFD est le premier outil EDA validé en production à répondre au besoin pressant de prise en compte des facteurs de variabilité dues aux procédés lithographiques dès les premières étapes de la création des designs. Calibre LFD permet aux concepteurs de gerer les compromis quant à la façon de créer un design moins sensible aux fluctuations des parametres dose et focus des procédés lithographiques. Ceci est important pour la génération de circuits à 90 nanomètres (nm) et crucial à 65 nm car, pour celle-ci, une variations infimes du procédé de fabrication peut avoir une grande influence sur les performances du produit fini. Sur le même principe que les kits de vérification des règles de conception (DRC), les partenaires de la plate-forme commune fournissent au concepteur un kit LFD calibré sur le processus 65 nm de l'un des trois centres de fabrication. Ce kit encrypté prend en compte les effets des variations potentielles en termes de focus, de dose d'exposition et d'erreur de taille des motifs sur le masque. Il inclus les recettes technologiques pour le RET, les modèles de process et les règles de vérification paramétrables de celui-ci . Le concepteur peut ainsi exécuter des simulations pour connaître le résultat d'un layout dans une fenêtre de procédés lithographiques spécifique. L'objectif à atteindre consiste à obtenir un design qui soit à la fois "LFD clean" et "DRC clean".

"IBM, Chartered et Samsung ont travaillé en étroite collaboration avec Mentor à l'optimisation de Calibre LFD pour leur plate-forme commune à 65 nm", déclare Steve Longoria, vice-président de la division Semiconductor Technology Platform de l'IBM Systems and Technology Group. "La disponibilité de cet outil améliore notre suite DFM et étend notre écosystème sur la base de la collaboration et de l'innovation. Les équipes de conception peuvent explorer les sensibilités lithographiques dès le début du cycle de conception et prendre des décisions essentielles avant d'envoyer le design pour fabrication dans une usine de l'un des trois partenaires."

Calibre YieldAnalyzer fournit une approche complète de conception en vue d'un meilleur rendement (DFY, design-for-yield) sur la plate-forme commune. Calibre YieldAnalyzer inclut des règles DFM qui couvrent les principaux domaines de perte de rendement (défauts aléatoires, systématiques, paramétriques, etc.). La plate-forme commune est la première de l'industrie à fournir des mesures d'amélioration du rendement qui montrent aux concepteurs comment et où améliorer le rendement de leurs designs. Elle utilise la puissance de YieldAnalyzer pour présenter ces mesures aux clients sous la forme d'un document Calibre DFM, extension naturelle de DRC avec DFM.

"A 65 nanomètres, le volume et la complexité des règles de 'sign off' sont incroyables", commente Ana Hunter, vice-présidente du service technologique de Samsung Semiconductor, Inc. "Cette tâche fastidieuse peut être simplifiée. En outre, notre coopération permet aux concepteurs d'évaluer les compromis et de se faire une idée relative de l'impact de chaque décision sur le rendement."

"Nous venons de parvenir à une étape majeure dans l'adoption de nouveaux outils et technologies répondant aux besoins de la DFM. Nous sommes ravis de supporter ce modèle de plate-forme commune constituant une option viable pour nos clients", poursuit Joe Sawicki, vice-président et directeur général de la division design-to-silicon de Mentor Graphics. "L'infrastructure de gestion des analyses et mécanismes de prévention contre les pertes de rendement prend forme et s'avère extrêmement précieuse."

A propos de la stratégie DFM de la plate-forme commune
En septembre 2005, les partenaires de la plate-forme commune dévoilaient leur stratégie DFM et le calendrier de lancement des outils DFM, en se focalisant sur les huit principaux axes de recherche des équipes communes de développement. Cette collaboration s'attelle à résoudre des défis urgents relatifs à la fermeture des designs (timing, surface, puissance, intégrité du signal, fabrication, etc.) Les capacités DFM sont fournies par le biais d'une série de kits de conception basés sur des règles et des modèles contenant les informations essentielles dont les concepteurs ont besoin pour mieux prévoir l'impact de leurs décisions sur un design implémenté dans divers environnement, modes et conditions d'exploitation. Les fournisseurs EDA et DFM bénéficient ainsi d'un processus strict de qualification dans les environnements de fabrication des trois partenaires, ainsi que de l'expertise de ces derniers en matière de conception DFM de niveau système.

A propos de Mentor Graphics
Mentor Graphics Corporation (Nasdaq : MENT) est l'un des principaux fournisseurs mondiaux de solutions de conception électronique, pour le matériel et le logiciel, offrant des produits, des services de conseil et une assistance technique reconnue aux sociétés internationales les plus performantes du monde dans le domaine de l'électronique et des semi-conducteurs. Fondée en 1981, la société a réalisé un chiffre d'affaires de 700 millions de dollars US au cours des 12 derniers mois et emploie environ 4.000 personnes dans le monde. Le siège social mondial est situé 8005 S.W. Boeckman Road, Wilsonville, Oregon (tél. : 97070-7777) ; le siège de la Silicon Valley est situé 1001 Ridder Park Drive, San Jose, Californie (tél. : 95131-2314). Site Web : www.mentor.com

Mentor Graphics et Calibre sont des marques déposées et Calibre LFD et Calibre YieldAnalyzer sont des marques commerciales de Mentor Graphics Corporation. Tous les autres noms de sociétés ou de produits sont les marques déposées ou les marques commerciales de leurs propriétaires respectifs.

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