Mentor Graphics und UMC validieren gemeinsam den 65-nm-Verifikations-Flow

WILSONVILLE, Oregon/USA, 07. Mai 2008 – Mentor Graphics und UMC haben die Genauigkeit des physikalischen 65-nm-Verifkations-Flows von UMC mit Calibre mnDRC validiert. Auf der Basis eines hoch entwickelten 65-nm-Kundenprodukts von UMC als Testdesign verifizierten die beiden Unternehmen, dass UMCs 65-nm-Calibre-Produktionseinheit genau die Design-Rule-Manuals für diesen Knoten widerspiegelt. Dieses hervorragende Resultat stärkt das Vertrauen der UMC-Kunden in die Produzierbarkeit ihrer 65-nm-Chipdesigns noch weiter.

Die Kunden von UMC schätzen die hohe Leistungsfähigkeit und Genauigkeit der Calibre-Tools sehr. Deshalb sind diese Tools als erstes für jeden neuen Technologieknoten verfügbar und werden auch intern von den UMC-Entwicklerteams genutzt. UMC und Mentor Graphics haben bereits in der Vergangenheit in einem gemeinsamen Projekt die herausragende Leistungsfähigkeit von Calibre nmDRC mit Hyperscaling demonstriert.

„Die von UMC und Mentor Graphics durchgeführte Genauigkeitsbewertung beweist, dass unseren Kunden führende EDA-Werkzeuge für schnelle Designverifikation und hochgenauen Verifikations-Flow zur Verfügung stehen“, sagte Lee Chung, Vice-President für weltweites Marketing bei UMC. „Da wir die Genauigkeit unserer modernen Produktionseinheiten validieren und sie bezüglich Geschwindigkeit verbessern können, erhalten unsere Kunden optimierte Lösungen, mit deren Hilfe sie ihre Designs schneller auf dem Markt bringen.“

Die Verifikationswerkzeuge von Mentor sind als Teil der SoC-Lösungen von UMC erhältlich. Diese beinhalten weitere umfangreiche EDA- und Design-Support-Ressourcen, welche die führenden Prozesstechnologien der Foundry ergänzen. Die 65-nm-Technologie wird derzeit in den beiden 300-mm-Fabs des Unternehmens zur Serienfertigung verschiedener Kundenprodukte verwendet.

„Calibre-Kunden können die Vorteile des immensen Leistungszuwachses des nmDRC einfach durch Qualifizieren der letzten Version nutzen und somit eine hohe Performance bei Nanometer-IC-Designs erzielen. Zudem profitieren sie von den jüngsten Entwicklungen bei den Verifikations-Flows“, erklärte Joe Sawicki, Vice-President und General-Manager der Design-to-Silicon-Division von Mentor Graphics. „Die Erweiterung auf die Mentor-nm-Plattform ermöglicht den Kunden auch den Aufbau eines unfassenden DFM-Flows mit Mentor-Tools zur Analyse und Verkleinerung kritischer Flächen, CMP-Analyse mit intelligenter Füllung, Überprüfung und Verbesserung des Lithographie-Prozesses, Design-for-Test und schnelles Yield-Learning auf der Basis von Volumentestdaten.”

Calibre nmDRC ist eine wichtige Komponente der Calibre-nm-Plattform. Diese bietet Anwendern eine ausgezeichnete Lösung für DRC (Design Rule Check), LVS (Layout Versus Schematic), Extraktion, CAA (Critical Area Analysis), CFA (Critical Feature Analysis), CMP (Chemical Mechanical Polishing) und LFD- (Litho-Friendly Design) Analyse – Funktionen, die alle zur Lösung der Yield-Herausforderung der Nanometer-Ära erforderlich sind.

Über Mentor Graphics
Mentor Graphics Corporation (Nasdaq: MENT) gehört zu den weltweit führenden Unternehmen, die Software- und Hardwarelösungen für die Entwicklung elektronischer Schaltungen anbieten. Zu Mentors Portfolio gehören Produkte, Beratungs- und Supportdienstleistungen, auf die die weltweit erfolgreichsten Elektronik- und Halbleiterhersteller vertrauen und dies mit der Verleihung zahlreicher Auszeichnungen an Mentor zum Ausdruck gebracht haben. Das 1981 gegründete Unternehmen erzielte in den zurückliegenden zwölf Monaten einen Gesamtumsatz von über 875 Mio. US-Dollar und beschäftigt weltweit ca. 4.350 Mitarbeiter. Der Hauptsitz von Mentor Corporate befindet sich den USA, 8005 S.W. Boeckman Road, Wilsonville, Oregon 97070-7777; Die Adresse der Niederlassung im Silicon Valley lautet: 1001 Ridder Park Drive, San Jose, Kalifornien 95131-2314. Weitere Informationen unter: www.mentor.com

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