STMicroelectronics sceglie Calibre LFD di Mentor Graphics

WILSONVILLE, Oregon, 23 Maggio 2008 - Mentor Graphics Corporation (Nasdaq: MENT) ha annunciato oggi che STMicroelectronics, per l'implementazione della propria soluzione di Analisi della Variabilità Litografica dedicata al controllo della variabilità produttiva nei processi a 65 nanometri ed oltre, ha scelto la piattaforma Calibre® DFM (Design For Manufacturing) di Mentor Graphics, unitamente al suo sistema Calibre LFD^TM (Litho-Friendly Design). L'annuncio giunge al termine di una accurata indagine comparativa delle diverse soluzioni commerciali disponibili, condotta da STMicroelectronics valutando le caratteristiche di precisione, velocità, e capacità di integrazione con i flussi di progetto esistenti. Questa decisione rafforza la relazione già esistente tra STMicroelectronics e Mentor, iniziata con l'utilizzo degli strumenti Calibre OPC a 130nm, e proseguita lungo tutti gli step tecnologici successivi, fino ai 45nm.

"Per poter analizzare efficacemente la variabilità produttiva, i modelli di processo devono essere estremamente accurati. I modelli utilizzati dalla soluzione Calibre LFD sono già stati collaudati sul silicio per le generazioni da 65nm e da 45nm e si sono dimostrati assolutamente accurati", afferma Joel Hartmann, Direttore Silicon Technology Development di STMicroelectronics. "Inoltre, la soluzione Calibre rende semplice la ri-calibrazione dei modelli necessaria quando i parametri cambiano per l'evoluzione del processo."

La piattaforma Calibre DFM consiste in un flusso completo ed altamente integrato, che consente un migliore controllo della variabilità produttiva. Permette di modellizzare con estrema precisione la risposta del processo litografico alle variazioni di esposizione, di messa a fuoco, dell'elaborazione con tecnologie RET (Resolution Enhancement Technology) per il miglioramento della risoluzione, e delle caratteristiche dell'incisione. È inoltre completamente integrata con il componente Calibre LVS (Layout vs. Schematic), che consente di estrapolare svariate dimensioni critiche dell'apparato sulla base delle geometrie perimetrali definite dai modelli LFD. I parametri risultanti, che rispecchiano fedelmente le forme effettive dell'apparato che verrebbe prodotto, possono essere quindi introdotte all'interno di un modello SPICE per generare una simulazione precisa dei timing che sarebbero presenti nell'apparato reale.

"STMicroelectronics ha scelto Calibre LFD per la propria soluzione avanzata di analisi della variabilità DFM perché la predizione accurata delle variazioni litografiche all'interno della finestra di processo rappresenta un fattore critico nel quadro del nostro flusso avanzato di progetto DFM", sostiene Philippe Magarshack, Vice Presidente del Technology R&D Group e General Manager della Divisione Centrale CAD & Design Solutions di STMicroelectronics. "Calibre LFD fornisce una combinazione ottimale di velocità ed elevata precisione, oltre ad un'eccellente integrazione con il resto del nostro flusso di progetto Calibre".

Grazie alla collaudata precisione fornita dal sistema Calibre LFD, i clienti come STMicroelectronics possono essere certi che gli "hotspot" litografici individuati dall'analisi costituiscono dei veri limiti sistematici alla resa produttiva e non semplicemente dei possibili "falsi positivi", e che i parametri calcolati per gli apparati rispecchiano fedelmente i valori attesi in produzione, e non sono puramente dei valori ideali stimati. I progettisti possono quindi procedere senza riserve ai miglioramenti dei layout, con la certezza che i propri sforzi avranno un impatto reale sulla resa produttiva. La stretta integrazione con il sistema di place-and-route Olympus-SoC^TM di Mentor Graphics consente inoltre l'aggiustamento litografico durante la creazione del progetto, rendendo la soluzione estremamente efficiente nel suo complesso.

STMicroelectronics sta iniziando la distribuzione della soluzione Calibre LFD a tutti i propri progettisti in tutto il mondo, come parte del proprio kit certificato di progetto.

"Siamo estremamente soddisfatti dei risultati di questo biennio di collaborazione con STMicroelectronics", afferma Joseph Sawicki, Vice Presidente e General Manager della Divisione Design-to-Silicon di Mentor Graphics. "La capacità di collaudare la nostra soluzione DFM in produzione, su progetti IC avanzati, presso aziende leader nella produzione di semiconduttori è ciò che permette di distinguere Mentor dal resto del mercato".

Mentor Graphics
Mentor Graphics Corporation (Nasdaq: MENT) è leader globale nelle soluzioni di progettazione di elettronica, hardware e software. Fornisce prodotti, servizi di consulenza e pluri-premiati servizi di supporto per le aziende di maggiore successo mondiale nei settori dell'elettronica e dei semiconduttori. Fondata nel 1981 e forte di 4'200 dipendenti nel mondo, l'azienda ha dichiarato un fatturato per gli ultimi 12 mesi di circa $850 milioni. La sede centrale si trova a 8005 S.W. Boeckman Road, Wilsonville, Oregon 97070-7777. Sito web: http://www.mentor.com/.

(Mentor Graphics e Calibre sono marchi registrati e LFD e Olympus-SoC sono marchi di Mentor Graphics Corporation. Tutti gli altri nomi di aziende e/o di prodotti sono marchi registrati e/o marchi dei rispettivi proprietari)