Calibre nmDRC/eqDRCの概要
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プロセスが微細化されるにつれて、より物理現象を考慮した複雑な検証が必要になってきました。このWebセミナーでは、この問題に対処すべく、高精度な検証を効率よく既存のデザイン・フローへ導入するためのヒントをご紹介します。
所要時間: 33:21
製品: Calibre nmDRC
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詳細
概要
このWebセミナーでは、既存のCalibre nmDRCのライセンスで動作する、次世代の新しい検証手法論について解説します。
- セッション1.では、これまでのDRCへの問題提示と、新たな検証手法論の必要性をご説明します。
- セッション2.では、Calibre nmDRC/eqDRCの基本的概要と、検証の生産性の向上についてご説明します。
- セッション3.では、実例に基づいたCalibre nmDRC/eqDRCの応用事例をご紹介します。
このセミナーで学べること
DFM/DFRを意識したレイアウト検証環境において、これからの先端プロセス・デザインのために、既存DRCの限界を把握することが必要です。このためには、CAD／設計部隊のみならず、プロセス／デバイス開発部隊、引いては、歩留まり管理部との連携が重要となります。これを実現するための新しいCalibre nmDRC手法論を、いかにチームワークで展開していくかについて学ぶことができます。
プレゼンターについて
David Abercrombie
メンター・グラフィックスは、最近の４年間において、先端の半導体製造上の歩留まり問題をDFMの観点から解決するためのEDAツールの開発をして参りました。David Abercrombieは、この開発におけるアドバンスド・フィジカル・ベリフィケーション・メソドロジ・プログラム・マネージャーです。前職は、LSI Logic、Motorola、HarrisおよびGeneral Electricにおいて、15年の歩留まり改善の経験を持っています。そして、歩留まり向上とデータ・マイニング・ソリューションを半導体製造へ提案するソフトウェアの開発を牽引してきました。また、半導体製造と歩留まり改善における論文と特許を広く発表しています。
1987年：クレムソン大学よりBSEEを取得
1988年：ノース・カロライナ州立大学にてMSEEを修了
対象者
- デザイン統括管理者
- CAD（Calibre coding) エンジニア
- レイアウト・デザイナー
- デザイン・ルール（プロセス／デバイス・エンジニア）開発者
- 歩留まり管理者